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      HC-VS200型真空回流爐

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      HVS-200型真空回流爐是利用真空加熱的原理,為電子元器件的合金焊料焊接提供工藝環境的設備。在該設備上,可以完成LED 芯片焊接、MEMS 器件封裝、LD 器件焊接、電力電子器件封裝、IGBT 芯片焊接、管殼封蓋等工作。

      設備技術指標

      序號

      技術指標名稱

      技術指標參數

      1

      可焊焊料熔點            

      ≤450℃

      2

      控溫精度:

      ≤±1℃

      3

      加熱板面積

      (350×290) mm2

      4

      有效面積內熱均勻性

      ≤±2%

      5

      極限真空度

      ≤5Pa

      6

      工作真空度

      10-15Pa

      7

      最大升溫速度

      ≥2℃/S

      8

      最大降溫速度

      ≥1.5℃/S

      9

      可放器件最大高度

      100mm

      10

      可編程數量

      ≥150組

      設備功能

      ☆ 采用工業控制計算機控制,中文操作界面;

      ☆ 加熱方式:紅外輻射加熱;

      ☆ 加熱載體:高導熱硬質合金板;

      ☆ 冷卻方式:氮氣冷卻;

      ☆ 爐蓋鎖緊方式:氣動自動鎖緊,未鎖緊報警;

      ☆ 工作模式:自動手動兩種工作模式;

      ☆ 用戶可自行設定工藝曲線且對所設定工藝曲線實時監控;

      ☆ 自動運行工藝曲線記錄存儲功能;

      ☆ 水冷保護功能(爐蓋及觀察窗密封圈、降溫板),冷卻水由設備自帶冷卻水循環系統提供;

      ☆ 控制軟件具有防差錯互鎖,超溫報警功能;

      ☆ 配置甲酸模塊,可以使用甲酸工藝氣體。真空機充氣系統為耐腐蝕規格。

      ☆ 可對抽真空、加熱、充惰性氣體、甲酸、充氣流量等功能進行設置及控制。

      未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加

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